CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相設備
側式真空氣相鍍膜設備

LPMS CVD12

側式真空氣相鍍膜設備

  • 不銹鋼真空反應罐,堅固耐用。真空管路採用不銹鋼連節,方便維護及保養。

  • 1.2米大直徑真空反應罐,單次鍍膜數量多, 也能滿足大型工件的鍍膜需求。

  • 側開式門設計便於取放產品與腔體清潔等維護作業。

  • 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍膜過程中轉動,鍍層更均勻。

  • 使用數位LED真空計顯示工作真空度。

  • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

  • 採用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能

  • 自診功能和各種故障報警。


標籤:   派瑞林 Parylene 真空氣相沉積設備

運用範圍

       真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧的薄膜塗層。

    廣泛應用於:航空航太、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領域產品的防水封裝與保護工藝中。



產品規格

設備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 ) / 重量

3000 mm x 1420 mm x 1620mm

反應罐體外徑

?1210 mm x 1240 mm

反應罐罐口尺寸

890 mm x 1200 mm

輸入電壓

三相 380 VAC / 50 Hz

設備最大功率

15 Kw

溫控分區

6

分解爐溫控範圍

室溫至700℃

昇華爐溫控範圍

室溫到150℃

原料門溫控範圍

室溫到250℃

製冷壓縮機功率

1000 W

製冷量

887 W

最低製冷溫度

-90℃

真空泵型號

2RH 090C

真空泵抽氣速率

90 m3

最大真空壓力

≤ 5 Pa

真空泵電機功率

3.7 KW (三相380VAC)

真空泵電機轉速

1440 R/Min

控制系統

10 ”人機介面,PLC 控制



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